多年來,華為Ascend系列AI晶片都停留在7奈米技術節點,遠落後於輝達等競爭對手。這不僅是華為的挑戰,更凸顯中國與全球半導體技術差距的擴大。
編譯/莊閔棻
華為在人工智慧(AI)市場的雄心,似乎因無法獲得艾司摩爾(ASML)的 EUV曝光機而受挫。多年來,其Ascend系列AI晶片都停留在7奈米技術節點,遠落後於輝達等競爭對手。這不僅是華為的挑戰,更凸顯中國與全球半導體技術差距的擴大。
據報導,華為最新的Ascend 910C晶片採用中芯國際(SMIC)的7奈米製程生產,而該製程技術已顯老舊。與此同時,台積電早在2018年就推出7奈米節點,並計畫在明年進入2奈米時代。反觀SMIC的7奈米製程,仍需依賴四重圖形化技術代替EUV設備,導致生產效率低且良率不穩。
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傳受制於國際制裁,華為Ascend系列晶片在2026年前,都將無法突破7奈米技術,而競爭對手台積電已準備在2024年推出2奈米製程。這也對華為的手機業務也造成影響,其Mate系列現採用內部開發的麒麟晶片,但短期內難以見到採用5晶片技術的麒麟SoC。
目前,中芯國際無法滿足中國市場對7奈米晶圓日益增長的需求,其供應不穩進一步阻礙中國半導體產業的發展。雖然中國政府投入大量資金支持本土晶片產業,但現階段技術限制和產能挑戰,讓中國的半導體進程蒙上陰影。
不僅是中國,日本也宣布將投入650億美元以振興本國晶片產業,顯示全球範圍內的半導體競爭愈發激烈,因此中國若想縮小差距,仍須克服EUV設備的技術障礙。
近期,傳華為以三倍薪資挖角台積電員工,試圖加強技術實力。此外,台積電指控華為透過代理公司,繞過美國出口限制來採購Ascend 910B晶片技術。面對國際制裁與技術瓶頸,中國的晶片設計商如華為,仍需依賴本土製造商如中芯國際,試圖在全球競爭中保有一席之地。
參考資料:Tom’s Hardware
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