【記者柯安聰台北報導】針對光焱科技（7728）於2026年3月26日對外發布之相關聲明內容，AI晶片研發分析平台－汎銓科技（6830）特此說明如下：
本公司已於2026年3月25日上午正式向智慧財產及商業法院提起民事訴訟，主張光焱科技股份有限公司侵害本公司所擁有之中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並依法請求相關侵權行為之停止及新台幣2億元之損害賠償。本案已進入司法程序，相關事實與法律爭點，將依法由法院審理並作出最終判斷。
汎銓強調，公司長期深耕於半導體先進製程材料分析、AI晶片分析平台及矽光子檢測技術領域，相關核心技術係投入大量研發資源所累積之成果。「光損偵測裝置」為本公司重要關鍵技術之一，已取得台灣、日本及美國發明專利，並實際應用於矽光子元件光損量測與定位分析，在高速光通訊、AI及光電整合等應用領域具備高度技術價值與產業重要性。
對於光焱科技所發布之相關聲明，本公司基於尊重司法程序原則，不就個別技術爭議或其單方面說法進行逐一回應。關於雙方技術差異、是否構成專利侵權，以及相關專利權利範圍之認定，均屬專業法律與技術判斷範疇，應回歸智慧財產及商業法院依據具體事證進行審理。汎銓呼籲相關當事人以誠實態度面對司法程序。
本公司提起本次訴訟，係基於維護自主研發成果與智慧財產權之正當權益，亦是對台灣整體科技產業之價值與重要性，以及全體股東與利害關係人負責之必要行動。汎銓一向重視技術創新與智慧財產保護，並致力於建立健全之產業競爭環境，期望透過合法途徑確保技術成果不受不當侵害，以樹立台灣科技產業對於專利與營業秘密上採最高標準捍衛的決心與努力。
汎銓重申，相關爭議已正式進入司法程序，後續將尊重法院審理結果，並依法保障公司及全體股東之合法權益。（自立電子報2026/3/26）
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