中國打造「曼哈頓計畫」 遭揭露祕密研發EUV設備挑戰西方晶片霸權黃仁杰 (2025-12-18 15:54:17)

路透社獨家調查發現，在中國深圳一處高度戒備的實驗室內，中國科學家已完成一台可產生極紫外光（EUV）的半導體設備原型機，這正是華府多年來試圖阻止中國取得的關鍵技術。這套設備於 2025 年初完成，目前正進行測試，體積幾乎佔滿整個廠房樓層。記者黃仁杰／編譯

路透社獨家調查發現，在中國深圳一處高度戒備的實驗室內，中國科學家已完成一台可產生極紫外光（EUV）的半導體設備原型機，這正是華府多年來試圖阻止中國取得的關鍵技術。這套設備於 2025 年初完成，目前正進行測試，體積幾乎佔滿整個廠房樓層。

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路透社獨家調查發現，在中國深圳一處高度戒備的實驗室內，中國科學家已完成一台可產生極紫外光（EUV）的半導體設備原型機。(圖／科技島資料照)[/caption]

知情人士透露，該原型機由一支曾任職於荷蘭晶片設備龍頭 ASML 的工程師團隊打造，透過逆向工程方式重建 EUV 技術。雖然該設備尚未成功生產可用晶片，但已能穩定產生極紫外光，顯示中國在先進製程設備上，距離突破西方封鎖的時間點，可能比外界預期更近。

ASML 執行長 Christophe Fouquet 今年 4 月才表示，中國要自行研發 EUV 設備仍需「很多很多年」，但這項首次由路透揭露的原型機，顯示中國可能將先進半導體自主時程提前數年。

EUV 是晶片戰爭的核心技術

EUV 設備被視為當前全球科技競爭的制高點。這項技術可在矽晶圓上刻劃比人類頭髮細上數千倍的電路，是 AI、智慧型手機與先進武器系統晶片不可或缺的核心。迄今為止，全球僅 ASML 一家公司掌握完整 EUV 商業化能力，其設備單價高達 2.5 億美元，客戶涵蓋台積電、英特爾與三星。

ASML 表示，公司從 2001 年打造第一台 EUV 原型機，到 2019 年量產商用設備，歷時近 20 年並投入數十億歐元研發資金。該公司也坦言，外界嘗試複製其技術並不意外，但難度極高。

「中國版曼哈頓計畫」祕密運作六年

知情人士指出，深圳 EUV 計畫是中國政府一項歷時六年的國家級行動，屬於國家安全機密，過去從未對外曝光。該計畫隸屬於中國半導體自立戰略，由中共中央科技委員會主導，最高層決策圈與國家領導人密切掌握進度。

多名人士形容，這項計畫的規模與保密程度，堪比美國二戰時期研發原子彈的「曼哈頓計畫」。目標非常明確，就是打造一套「完全由中國製造」的先進晶片生產設備體系，將美國與西方國家徹底排除在供應鏈之外。

華為成為關鍵協調中樞

在整個計畫中，華為扮演核心整合角色，負責串聯全中國的設計公司、研究機構與設備供應商，動員數千名工程師。知情人士透露，華為創辦人任正非會定期向中國高層簡報進度。

為維持高度保密，華為半導體團隊多數成員需長期駐點工作，平日不得返家，部分團隊甚至限制手機使用。不同團隊彼此隔離，成員往往只知道自己負責的任務，無法掌握全貌。

前 ASML 工程師是突破關鍵

知情人士指出，深圳原型機得以成功運作，關鍵在於一批退休或離職的前 ASML 華裔工程師。他們熟悉 EUV 光源、系統整合與製程細節，是逆向工程不可或缺的關鍵角色。

其中一名工程師受聘時，甚至配發假名身分證，在廠區內只能使用化名，凸顯計畫的高度隱密性。部分現任 ASML 的中國籍員工也表示，近年曾遭華為獵才單位接觸。

技術仍落後 但時程大幅提前

知情人士坦言，中國原型機在光學精度與穩定性上，仍明顯落後 ASML，特別是無法取得德國蔡司（Zeiss）生產的高階反射鏡，是目前最大瓶頸。不過，中國透過拆解舊型 ASML 設備、二手市場採購零組件，以及國內研究機構補位，已讓設備具備實驗運作能力。

官方目標是 2028 年以該原型機產出可用晶片，但內部評估認為 2030 年較為現實，即便如此，仍比市場原先預估的「至少十年」大幅提前。

西方封鎖效應正在失效

美國自 2018 年起施壓荷蘭，阻止 ASML 向中國出售 EUV 設備，並於 2022 年擴大管制範圍，連較舊的 DUV 設備也納入限制。然而，路透調查顯示，中國正透過回收舊機、轉手採購與零組件拆解，逐步削弱出口管制的實際效果。

一名半導體分析師指出，只要中國能讓 EUV 光源穩定、功率足夠且污染可控，「剩下的只是時間問題」。他直言，中國最大的優勢在於，商用 EUV 已存在，並非從零開始。

來源：路透社

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